三星与东进半导体开发EUV光刻胶

EUV光刻工艺除了需要EUV光刻机之外，也需要配套的EUV光刻胶，目前这一市场也主要被日本厂商垄断，现在三星与韩国半导体厂商东进合作开发成功EUV光刻胶，已经通过验证。东进半导体19日宣布，近期通过了三星电子的EUV PR(光刻胶)可靠性测试。

PR，也称为光刻胶，是半导体曝光工艺中的关键材料.它应用于芯片上，当用半导体曝光设备照射光时，会发生化学反应并改变物理性质，通过用显影剂冲洗掉PR来绘制微电路，只留下必要的部分。

2019年，日本与韩国爆发争议之后曾经限制三种重要的半导体材料对韩国的出口，EUV光刻胶就是其中之一，为此韩国公司也加快了EUV光刻胶的研发。

根据中研产业研究院《2021-2026年光刻胶市场发展现状调查及供需格局分析预测报告》：

光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。

光刻胶有三大应用领域，按照应用领域可分为PCB(印制电路板)光刻胶、LCD(液晶显示屏)光刻胶和半导体光刻胶。

光刻胶看似普通，其实技术门槛是极高的。全球光刻胶被美日垄断，我国光刻胶严重依赖进口。

技术门槛越高，国产替代越难。技术门槛较低的PCB光刻胶国产化程度是最高的，国产化程度为50%。而技术门槛高一些的LCD刻胶和半导体光刻胶的国产化程度分别为10%和5%。

越是技术高端的光刻胶，对于生产原料的纯度、杂质、金属离子含量等要求也非常严苛。所以光刻胶光引发剂的国产化程度也因应用领域而异。

近年来各类终端应用加持OLED技术的趋势下，各家的OLED面板产能稼动率也在不断提升，根据CINNO Research统计数据显示，国内OLED面板厂10月平均稼动率为64.9%，相比9月增长6.2个百分点。近来有消息称，2022年京东方向苹果iPhone供OLED屏数量将是2021年三倍的传闻，达到4000-5000万支OLED面板，在iPhone OLED供应中占比将会提升到20%。

中国大陆显示产业的迅猛发展，必然会让其上游原材料需求也会迅速加大。根据CINNO Research预测，2021年中国大陆整体面板用光刻胶需求量在4.8万吨，同比增长将达约16%。目前中国大陆市场九成以上的光刻胶用量仍为液晶面板生产所需，随着OLED产能规模的扩增，预计至2025年OLED光刻胶用量比重将增至约20%。

伴随着5G、AI与全球物联网的推进，各类芯片用量不断攀升，全球多个主要晶圆制造基地积极扩充产能。除了显示产业蓬勃发展外，中国大陆也正在与全球同步加速晶圆产能的扩建。

目前来看，中国大陆的晶圆产能与全球差距仍然比较大，不过近年中国大陆在积极投建新的晶圆厂，进行产能方面的扩充。根据CINNO Research统计数据显示，中国大陆在全球晶圆产能中占比约16%，与日本地区产能相当，略高于美国地区的3%。

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