光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。

2022年光刻胶行业市场规模及发展前景分析

光刻胶按照应用领域不同，可以分为半导体用光刻胶、平板显示用光刻胶、印刷电路板用光刻胶和其他用途光刻胶，技术壁垒相对程度依次降低。全球各类型光刻胶市场份额较为平均，均在25%左右;中国本土企业生产以技术壁垒相对较低的PCB光刻胶为主，高端光刻胶被国外巨头垄断，高端光刻胶是集成电路28nm、14nm乃至10nm以下制程的关键，而我国几乎处于空白状态，国产替代空间广阔。

我国光刻胶产业链中，上游原材料主要包括;中游为各类型的光刻胶，主要分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶;下游为应用领域，光刻胶主要用来制造印刷电路板、平板显示屏、半导体等。

据中研产业研究院公布《2021-2026年光刻胶市场发展现状调查及供需格局分析预测报告》显示

国内光引发剂生产企业经过十多年激烈的市场竞争，集中趋势日益明显，我国光引发剂生产领先企业有久日新材、扬帆新材、强力新材、固润科技、双键化工等，其中久日新材是全国产量最大、品种最齐全的光引发剂生产供应商，光引发剂业务市场占有率约30%。

工信部于2021年发布了《重点新材料首批次应用示范指导目录(2021版)》，其中关于光刻胶及其原料的入选涵盖了半导体光 刻胶及其原料和LCD用正性光刻胶。

原料是光刻胶产业的重要环节，原料的品质也决定了光刻胶产品品质，主要原料包括树脂、光引发剂、溶剂和单体等。我国对光刻胶及专用化学品的研究起步较晚，但国家层面非常重视，从“六五计划”至今都一直将光刻胶列为国家高新技术计划、国家重大科技项目。尽管取得了一定成果，但技术水平仍与国际水平相差较大，作为原料的主要专用化学品仍然需要依赖进口。

光刻胶作为半导体、平板显示及PCB行业制造环节中关键的材料，光刻胶的市场需求得到快速释放，尤其是LCD光刻胶产量增长。数据显示，我国光刻胶产量由2016年7万吨增至2019年11万吨。2021年我国光刻胶产量可达15万吨。

光刻胶及其配套化学品占半导体材料产值12%，全球市场规模近百亿美元，行业技术壁垒和客户壁垒高，目前主要被日本、韩国和欧美国家垄断。根据Cision数据，2019年中国光刻胶市场规模约88亿人民币，预计该市场2019-2022年仍将以年均15%的速度增长，至2022年中国光刻胶市场规模将超过117亿人民币。

随着市场、资金、政策等多方面因素驱动，国内IC光刻胶及原材料厂商日益增多，国产高端IC光刻胶突破在望。光刻胶方面，国内供应商主要集中于PCB/面板/LED领域等中低端市场;光刻胶原材料方面，成本占比高的树脂和光引发剂等对海外厂商依赖度高。随着国内半导体产业快速发展及对国产核心半导体材料的重视，国内部分公司在KrF、ArF等高端IC光刻胶领域不断突破，将有望改变全球光刻胶产业供给格局。

光刻胶行业研究报告旨在从国家经济和产业发展的战略入手，分析光刻胶未来的政策走向和监管体制的发展趋势，挖掘光刻胶行业的市场潜力，基于重点细分市场领域的深度研究，提供对产业规模、产业结构、区域结构、市场竞争、产业盈利水平等多个角度市场变化的生动描绘，清晰发展方向。

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