2022电子束曝光系统(EBL)行业现状及未来趋势分析

国内电子束曝光系统行业前景及现状发展如何?随着器件的特征尺寸不断缩小，在掩模版制造中普遍采用电子束曝光和激光光刻设备，在这两类设备中，电子束曝光系统行业在性能和数量上均占优势。

根据中研普华研究院《2022年全球与中国电子束曝光系统(EBL)市场深度研究报告》分析：

电子束曝光指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短，光刻能够达到的精度越高。根据德布罗意的物质波理论，电子是一种波长极短的波。这样，电子束曝光的精度可以达到纳米量级，从而为制作纳米线提供了很有用的工具。电子束曝光需要的时间长是它的一个主要缺点。为了解决这个问题，纳米压印术应运而生。

电子束曝光系统(EBL)行业现状

电子束光刻系统(EBL)的消费地区为北美、欧洲、亚太等地区。亚太地区在2019年占据了最大的收入市场份额，约为48%。其次是欧洲和北美，而其他地区的市场规模较小。

2019年，全球电子束曝光系统(EBL)市场规模达到了11亿元，预计2026年将达到14亿元，年复合增长率(CAGR)为7.3%。

近年来，中国电子束曝光系统的产量和产值都呈现出较快的增长态势。据统计，2021年，中国电子束曝光系统的产量约为864台，同比增长12.06%;产值约为6.82亿美元，同比增长18.40%。

据统计，2021年欧洲电子束曝光系统的产量约为1364台，较2020年增长了6.98%;产值约为14.14亿美元，较2020年增长了12.67%。日本电子束曝光系统的产量约为791台，较2020年增长了2.06%;产值约为6.87亿美元，较2020年增长了3.0%。

电子束曝光系统(EBL)应用

在最近的一项研究中，昆士兰科技大学的研究团队首次将电子束曝光(EBL)技术应用于生物纳米结构的仿生制造，并取得了重要研究成果。昆士兰科技大学Prasad KDV Yarlagadda及其研究团队对蝉翼的杀菌和细胞相容特性进行了系统研究，并首次使用电子束曝光技术(EBL)进行蝉翼结构的仿生制造，加工出类似的纳米锥阵列结构，经研究发现，其同样具有杀菌和生物相容性。

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