国际半导体产业协会(SEMI)最新报告显示,2025年全球半导体制造设备销售额预计将达1255亿美元,同比增长7.4%,创历史新高;2026年有望进一步攀升至1381亿美元。其中,中国持续领跑全球设备支出市场。

在这一增长浪潮中,半导体制造的精细化需求正倒逼产业链各环节技术升级。作为芯片生产的“隐形守护者”,超纯水系统的重要性日益凸显——其纯度直接影响晶圆良率与产品性能。高频科技作为国内极少数能够在芯片领域提供超纯水系统的企业,正以工艺创新和技术突破为行业注入新动能。

水质纯度跃升,打造芯片良率“引擎”

在半导体制造的复杂流程中,良率的提升始终是整个行业不懈追求的核心目标,而超纯水在其中扮演着无可替代的关键角色。从晶圆清洗、刻蚀到抛光等关键关节,超纯水的身影贯穿始终——其纯度直接决定着晶圆表面污染物的去除效果,更与最终产品的良率形成强关联。

正因如此,半导体制造对超纯水的指标要求达到近乎苛刻的程度:除了基础的电阻率指标外,总有机碳、溶解气体、颗粒物、菌群落、溶解气、金属离子、硅元素、硼元素,均被纳入严格管控范围。这无疑对超纯水生产工艺的精度控制、杂质去除能力等提出了前所未有的挑战。

作为聚焦芯片制造等电子核心产业的超纯水系统供应商,高频科技深耕行业二十余年。依托资深技术团队的持续研发与工艺探索,其超纯水系统可制备纯度达ppt级别的超纯水——离子含量仅为万亿分之一,不仅充分满足先进半导体制造对超纯水的质量需求,更为芯片生产良率提供坚实护航。值得关注的是,高频科技不仅是国内极少数能为芯片领域提供超纯水系统的企业,更是国内首家具备12英寸14nm芯片产线超纯水制备能力的系统供应商。凭借突出的研发水平、高效的交付能力与优质的产品质量,高频科技产品已供应给芯片领域众多知名客户,赢得了良好的市场口碑。

从纯度保障到节水赋能,助力半导体产业高质量发展

随着工艺演进,半导体耗水量呈指数级增长。数据显示:一座月产4万片的12英寸7nm晶圆厂,每日需消耗约2万吨水,较成熟制程增加逾一倍。为缓解缺水问题,降低用水成本,半导体生产企业积极寻求提升水资源利用率创新方案。高频科技始终致力于为客户提供领先的超纯水制备与循环使用方案,为半导体行业带去可持续发展新动力。

高频科技掌握了针对电子级废水杂质特性的高效、经济处理工艺,能深度处理超过15种涵盖先进制程的全部芯片废水,通过多级化学混凝沉淀、氨氮吹脱、生物处理等技术组合,有效去除复杂污染物。同时,基于对制程的深刻理解和前瞻性设计,能对产线产生的30多道废水(如纯水再生浓水、低浓度氢氟酸废水、研磨废水、酸/碱废水等)进行科学分流、精准回用,使其得到更佳处理效果。依托先进的超纯水与废水处理技术及系统设计能力,高频科技实现了整厂用水高达90%的制备回收率,在确保水质达标的同时,显著降低企业运营成本,助力降本增效。

在人工智能、汽车电子、物联网等领域的强劲需求驱动下,半导体市场持续高速增长,对超纯水纯度、稳定性及资源效率的要求也随之跃升。面对这一趋势,高频科技凭借其先进的超纯工艺,不仅提供保障先进半导体制造所需的高纯度水源,更通过创新的水循环技术显著提升水资源利用效率、降低企业运营成本,为半导体产业的高质量与可持续发展提供了坚实可靠的技术支撑。

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